Laserinterferenz-Lithographie

Laserinterferenz-Lithographie ist eine einzigartige Technologie, um sowohl hoch periodische als auch stochastische Oberflächenreliefstrukturen in Photolack-Materialien zu erzeugen.

Durch Modifizierung der Prozessparameter wird eine Vielzahl unterschiedlicher Profilformen möglich. Ein- und zweidimensionale Strukturen können mit unterschiedlichen Geometrien gebildet werden – von sinusoidal oder parabolisch bis zu triangular oder selbst binär.

Die Stärke der Laserinterferenz-Lithographie ist die Möglichkeit der Hochskalierung auf sehr große, nahtlos strukturierte Flächen mit einer hervorragenden Homogenität. Bis zu ca. ein Quadratmeter oder sogar größer sind möglich.