Laserinterferenz Lithographie

Laserinterferenz-Lithographie ist eine einzigartige Technologie, um sowohl hoch periodische als auch stochastische Oberflächenreliefstrukturen in Photolack-Materialien zu erzeugen. Es ist möglich Strukturen mit Perioden zwischen      200 nm und 100 µm darzustellen.

Durch Modifizierung der Prozessparameter wird eine Vielzahl unterschiedlicher Profilformen möglich. Ein- und zweidimensionale Strukturen können mit unterschiedlichen Geometrien gebildet werden – von sinusoidal oder parabolisch bis zu triangular oder selbst binär.

 

 

Die Stärke der Laserinterferenz Lithographie ist die Möglichkeit der Hochskalierung auf sehr große, nahtlos strukturierte Flächen mit einer hervorragenden Homogenität. Bis zu ca. ein Quadratmeter oder sogar größer sind möglich.

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